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四氟(fu)化碳

純度︰99.999%

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基本信息︰

 四氟(fu)化碳 純度︰99%

 別名︰四氟(fu)甲烷;Freon-14;R 14

 英文名稱︰carbon tetrafluoride

 英文同義詞︰Tetrafluoromethane

 CAS No︰75-73-0

 EINECS︰200-896-5

 分(fen)子式︰CF4

 分(fen)子量︰88

物理性質︰


化學性質︰

 

相(xiang)對分(fen)子量88.00。在常溫下,四氟(fu)化碳是無色、無臭(chu)、不燃(ran)的(de)易壓縮性氣體(ti),揮發(fa)性較(jiao)高,是最穩定的(de)有機化合物之一,不易溶于水。在900℃時,不與銅、鎳、鎢(wu)、鉬反應,僅在碳弧溫度下緩慢分(fen)解,微溶于水,在25℃及0.1Mpa下其溶解度為0.0015%(重量比),然(ran)而與可燃(ran)性氣體(ti)燃(ran)燒時,會分(fen)解產生有毒氟(fu)化物。

四氟(fu)化碳有時會用作(zuo)低溫冷卻(que)chun)痢Kta)可用于電路板(ban)的(de)制(zhi)造,以(yi)及制(zhi)造絕緣物質和半導體(ti)。它(ta)是用作(zuo)氣體(ti)蝕刻劑及等離子體(ti)蝕刻版。

 

四氟(fu)化碳是目(mu)前(qian)微電子工(gong)業中用量最大的(de)等離子蝕刻氣體(ti),其高純氣及四氟(fu)化碳高純氣配高純氧氣的(de)混合體(ti),可廣泛應用于 、二氧化 、氮化 、磷 玻璃及鎢(wu)薄(bo)膜(mo)材(cai)料(liao)的(de)蝕刻。對于 和二氧化 體(ti)系,采用CF4-H2反應離子刻蝕時,通過調節(jie)兩種zhi)ti)的(de)比例(li),可以(yi)獲(huo)得(de)45︰1的(de)選擇性,這在刻蝕多晶 柵極(ji)上的(de)二氧化 薄(bo)膜(mo)時很有用。

 

在電子器件表面清洗、太陽(yang)能電池的(de)生產、激(ji)光(guang)技(ji)術(shu)、氣相(xiang)絕緣、低溫制(zhi)冷、泄漏檢(jian)驗(yan)劑、控制(zhi)宇(yu)宙火(huo)箭姿態、印刷電路生產中的(de)去污(wu)劑等方(fang)面也(ye)大量使用。

 

由于化學穩定性極(ji)強,CF4還可以(yi)用于金屬(shu)冶煉(lian)和塑料(liao)行業等。

 

四氟(fu)化碳的(de)溶氧性很好,因此(ci)被科學家(jia)用于超(chao)深(shen)度潛水實驗(yan)代替普通壓縮空氣。目(mu)前(qian)已yan)誒鮮shu)身上獲(huo)得(de)成功,在275米到366米的(de)深(shen)度內,小白鼠(shu)仍可安全脫險。

吸入四氟(fu)化碳的(de)後果與濃度有關,包括頭痛、惡(e)心(xin)、頭昏眼花(hua)及心(xin)血管系統的(de)破壞(主(zhu)要(yao)是qie)腦啵 3?奔浣喲?岬賈卵現氐de)心(xin)髒破壞。

 

四氟(fu)化碳的(de)密度比較(jiao)高,可以(yi)填滿(man)地(di)面空間範圍(wei),在不通風(feng)的(de)地(di)方(fang)會導致窒息。





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